Au mois de mars 2025, Samsung accusait réception de sa première machine lithographique pilote high-NA EUV (après Intel et TSMC) d'ASML. À la fin de même année, elle recevait la première machine commerciale de ce modèle, qui coûte entrée 350 à 400 millions de dollars l'unité. Un bijou de technologie, le sommet du savoir-faire d'ASML… qui deviendra pleinement utile à partir de 2030 seulement ! En effet, le vice-président de la technologie (Master) de Samsung Electronics, Park Chang-Min, a présenté la nouvelle roadmap du groupe lors de la conférence Next-Generation Lithography + Patterning Conference (NGL 2026). À cette occasion, il a indiqué que Samsung reportait l'utilisation de la machine high-NA EUV, qui sera consacrée au procédé de gravure en 1 nm, dont la production de masse est programmée pour 2030.